小型高溫蒸鍍儀，鎢舟加熱，或者坩堝加熱，溫度可達1800度，帶樣品臺旋轉功能，使鍍膜更加均勻，

軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。
通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

★     專業真空蒸發電源，數顯工作電流和電壓，恒流輸出；

★     可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；

★     襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；

★     可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻

★     可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO₃, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

  原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒 機械泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘      115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

小型高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD