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News Center半導體制冷臺的工作過程可以分為四個主要階段：起始階段、正向運行階段、穩態工作階段和反向運行階段。在起始階段，冷端的溫度較高，熱端的溫度較低。然而，由于這兩端之間的溫度差異不足以產生足夠的電壓差，導致無法維持制冷效果。因此，此階段需要其他制冷設備或方法進行預冷。在正向運行階段，冷端的溫度下降，熱端的溫度上升，電流流經熱電堆，產生一定的制冷效果。溫度差異逐漸加大。在穩態工作階段，冷端達到了所需的溫度，并且熱端的溫度也相應達到了一定的高溫，設備可以長時間維持制冷狀態。在反向運行階段...
近期我司新推出了顯微鏡支架產品，設計簡單、功能齊全，是一種降低成本的新型支架。平滑的水平移動非常適合大范圍觀察。作為機器或設備的光學設定規，顯微鏡可以從磁性固定位置水平滑動以進行觀察。此外，一旦觀看完畢，該裝置可以輕松返回到原來的位置，不妨礙工作。定位銷和限位器功能考慮了重復運動的再現性。這是一個方便使用的支架探針臺顯微鏡支架是探針臺的一部分，它支撐并固定顯微鏡，使顯微鏡能夠進行精密操作。該支架有以下主要功能：穩定性：為顯微鏡提供穩定的支撐，確保在測試過程中顯微鏡不會發生移動...
半導體制冷臺(也稱為熱電制冷臺)是一種基于熱電效應的制冷設備，它通過將電能轉化為熱能和冷能，實現制冷效果。當一個電流經過兩個不同材料的接觸面時，產生的熱流量將會引起溫度差異，從而產生熱電效應。這被稱為Seebeck效應。Seebeck效應的基本原理是，在兩個不同材料交界處，電子會從能級較高的材料流向能級較低的材料，從而產生電壓差。一般由三個主要部分組成：冷端、熱端和電源。冷端由多個P型和N型的半導體材料連接而成，形成了一個熱電堆。當電源連接到熱電堆時，電流通過堆，通過Seeb...
小型蒸鍍儀在材料科學和工程領域中發揮著重要作用，廣泛應用于微電子、光電子、材料科學等領域。熱蒸發是一種將固態材料迅速加熱并使其轉變為蒸汽的過程。固態材料(如金屬或非金屬)被放置在加熱源中，當加熱源加熱到一定溫度時，該材料開始蒸發。蒸發的材料蒸汽在真空環境中自由擴散，并沉積到待鍍物表面形成薄膜。小型蒸鍍儀常見的應用領域：1.微電子工業：在微電子工業中用于制備集成電路、半導體芯片和顯示器件等。通過在基板上沉積金屬薄膜或半導體材料，可以實現電路的連接和器件性能的改善。2.光電子工業...
【新品發布】——突破極限，1000°高溫探針臺震撼上市！我們非常榮幸地宣布推出全新的1000°高溫探針臺。這款產品是我們經過不懈努力和持續創新的成果，將為您在高溫實驗領域帶來了全新的體驗。1000度高溫真空探針臺（High-TemperatureVacuumProbeStation）主要應用于半導體、材料科學、納米技術、光電子、薄膜技術等領域，具有以下用途：1.半導體器件測試與表征：用于不同溫度下的半導體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2.材料性能表征：研究和測試...
小型濺射儀是種常見的表面處理設備，其原理是利用高能離子束轟擊固體材料，以改變其表面性質。主要由濺射靶、工作室、真空系統、控制系統等組成。其中關鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質的物質組成，如金屬、陶瓷等。工作室是一個真空環境，用于避免氧氣、水蒸氣等對濺射過程的干擾。在工作時，首先需要將工作室抽成高真空狀態。通過真空泵抽取工作室內的氣體，減少對離子束的干擾。接下來，將濺射靶放置在工作室內，并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對方向。然后，靶與工作室中...
等離子刻蝕機是通過將氣體放電產生等離子體，利用等離子體中的能量來刺激表面上的分子和原子，從而實現清洗和刻蝕的。具體來說，主要包括以下幾個部分：真空腔體、氣體供應系統、放電系統和噴射系統。首先，在真空腔體內建立高度的真空環境，這是因為等離子體只能在真空環境中穩定存在，而且真空環境可以減少雜質對刻蝕過程的干擾。然后，氣體供應系統會向真空腔體內注入一定比例的工作氣體和反應氣體。工作氣體一般是沒有參與反應的氣體，例如氬氣或氮氣，而反應氣體則是用于反應的氣體，例如氟元素或氯元素。這樣的...
“2023全國天線年會”將于2023年8月20日至23日在哈爾濱召開，會議的目的是為天線技術領域的專家學者、研究生、工程技術及管理人員提供一個交流學術、科研成果及技術最新發展的平臺。熱忱歡迎從事天線理論研究、技術開發、裝備生產與應用的專家學者、研究生和技術人員積極投稿并參會。會議期間將同時舉辦天線、微波儀器與設備、電磁兼容、電磁場仿真軟件等產品的展覽。本次我們展覽的產品是小型直流磁控濺射儀和一英寸真空探針臺。
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